【法规名称】
【颁布时间】 2006-01-05
【效力属性】 有效
【法规编号】 34399 什么是编号？
【正 文】
光电材料及元件制造业空气污染管制及排放标准
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1 本标准依空气污染防制法第二十条第二项、第二十一条、第二十二条第一项、第二项、第二十三条第二项规定订定之。 2 本标准专有名词及符号定义如下： 一、光电材料及元件制造业 (以下简称光电业) ：指从事液晶面板制造及其相关材料、元件或产品制造者。但仅从事二极体元件制造者不在此限。 二、挥发性有机物 (Volatile Organic Compounds，VOCs) ：指含有机化合物之空气污染物总称。但不包含甲烷、一氧化碳、二氧化碳、碳酸、碳化物、碳酸盐、碳酸铵等化合物。 三、单位小时许可排放量：指单一公私场所内所有制程，其固定污染源操作许可证所登载单一空气污染物之年许可排放总量，依核定之年操作时数换算为单位小时排放量称之；单位为公斤／小时。 四、密闭排气系统 (Closed Vent System) ：指可将制程设备产生之空气污染物有效捕集并输送至污染防制设备，使传送之气体不直接与大气接触之系统。该系统包括管线及连接装置。 五、单位小时管道排放量 (以下简称管道排放量) ：指单一排放管道之空气污染物排放量；单位为公斤／小时。 六、污染防制设备处理效率 (以下简称处理效率) ：指空气污染物经污染防制设备处理后之排放量削减百分比，依同步检测污染防制设备前端及后端废气浓度及排放量进行计算，其计算公式如下： 处理效率= (E-E0) ／ E ×100％；单位为％。 E ：经密闭排气系统进入污染防制设备前之空气污染物单位小时排放量；单位为公斤／小时。 E0：经污染防制设备后迳排大气之空气污染物单位小时排放量；单位为公斤／小时。 七、新设制程：指本标准发布施行日起设立之制程。 八、既存制程：指本标准发布施行日前已完成建造、建造中、完成工程招标程序或未经招标程序已完成工程发包签约之制程。但既存制程符合固定污染源设置与操作许可证管理办法第三条规定之变更条件者，以新设制程论。 九、使用量：指以溶剂、树脂或其他形式使用于制程之含挥发性有机物、氢氟酸或盐酸原物料使用量。 十、输出量：指随废溶剂、废弃物、废水、产品携带或其他形式输出制程之挥发性有机物、氢氟酸或盐酸输出量。 十一、每季有效监测时数百分率：指监测设施每季之有效监测时数比率，其计算公式如下： T – (Du＋Dm) P =───────×100 ％ T–t P ：每季有效监测时数百分率；单位为％。 T ：固定污染源每季操作时间；单位为小时。 t ：监测设施汰换时间；单位为小时。 Du：监测设施无效数据时间；单位为小时。 Dm：监测设施遗失数据时间；单位为小时。 3 本标准适用于光电业之烟道排气，管制空气污染物项目为挥发性有机物、氢氟酸及盐酸。 4 光电业排放之空气污染物应经密闭排气系统收集，并应符合下表规定后始得排放： ┌───┬─────────┬────────────────┐
│空气│适用对象│排放标准│ │污染物│││ ├───┼─────────┼────────────────┤ │挥发性│新设制程│处理效率应达百分之八十五或管道排│ │有机物││放量Ο．四公斤／小时以下 (以甲烷│ │││为计算基准) 。│ │├─────────┼────────────────┤ ││既存制程│处理效率应达百分之七十五或管道排│ │││放量Ο．四公斤／小时以下 (以甲烷│ │││为计算基准) 。│ ├───┼─────────┼────────────────┤ │氢氟酸│污染防制设备前端废│处理效率应达百分之八十五或管道排│ ││气浓度三ppm 以上者│放量Ο．一公斤／小时以下│ │├─────────┼────────────────┤ ││污染防制设备前端废│处理效率应达百分之七十五或管道排│ ││气浓度小于三ppm 者│放量Ο．一公斤／小时以下│ ├───┼─────────┼────────────────┤ │盐酸│污染防制设备前端废│处理效率应达百分之八十五或管道排│ ││气浓度三ppm 以上者│放量Ο．二公斤／小时以下│ │├─────────┼────────────────┤ ││污染防制设备前端废│处理效率应达百分之七十五或管道排│ ││气浓度小于三ppm 者│放量Ο．二公斤／小时以下│ └───┴─────────┴────────────────┘ |
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